應用于LED產業的特種氣體
半導體工業用工業氣體品種多、質量要求高、用量少,大部分是有毒或腐蝕性氣體。品種高達百余種。半導體工業特種氣體應用分類,主要包括:
1. 硅族氣體:含硅基的硅烷類,如硅烷、二氯二氫硅、乙硅烷等
2. 摻雜氣體:含硼、磷、砷等三族及五族原子之氣體,如三氯化硼、三氟化硼、磷烷、砷烷等。
3. 蝕刻清洗氣體:以含鹵化物及鹵碳化合物為主,如氯氣、三氟化氮、溴化氫、四氟化碳、六氟乙烷等。
4. 反應氣體:以碳系及氮系氧化物為主,如二氧化碳、氨、氧化亞氮等。
5. 金屬氣相沉積氣體:含鹵化金屬及有機烷類金屬,如六氟化鎢、三甲基鎵等。
在LED產業鏈中,外延技術、設備和材料是外延片制造技術的關鍵。當前MOCVD工藝已成為制造絕大多數光電子材料的基本技術。外延技術需要的超純特種氣體包括高純砷烷、高純磷烷、高純氨氣,砷化鎵生產中應用硅烷N型摻雜,而氯化氫和氯氣常常用做蝕刻氣,氬、氫、氮則是必須的載氣。